據(jù)中國光谷官微消息，近日，國內(nèi)首條基于12寸40nm CMOS工藝線的全國產(chǎn)化硅光PDK（工藝設(shè)計套件）、TDK（測試設(shè)計套件）及ADK（封裝設(shè)計套件）流片服務(wù)平臺正式在光谷投用，該平臺由國家信息光電子創(chuàng)新中心（NOEIC）建設(shè)運營，標志著光谷企業(yè)在硅光領(lǐng)域?qū)崿F(xiàn)又一關(guān)鍵突破。

         據(jù)悉，該平臺創(chuàng)新構(gòu)建硅光MPW服務(wù)模式，通過將多個芯片設(shè)計集成于同一晶圓流片，實現(xiàn)成本分攤，大幅降低研發(fā)門檻。平臺基于40nm制程的硅光PDK1.0性能總體達到商用要求，其加工精度、波導損耗、光耦合效率等指標達國際先進水平。除了PDK外，平臺還集成了TDK和ADK，可提供芯片從集成設(shè)計到封裝驗證的全流程支撐，可滿足科研成果轉(zhuǎn)化和產(chǎn)品研制中的快速迭代需求，助力項目加速落地。

         據(jù)了解，國家信息光電子創(chuàng)新中心2018年在光谷揭牌，承載解決我國信息光電子制造業(yè)關(guān)鍵共性技術(shù)協(xié)同研發(fā)和首次商業(yè)化應(yīng)用的戰(zhàn)略任務(wù)。7年多來，它已服務(wù)支撐300余家單位，完成800多次訂單，并突破了1.6T硅光互連芯片、2T芯粒、145GHz強度調(diào)制器等關(guān)鍵技術(shù)。
                                                                                                                                                      
                                                                                                                                                                                                                                         來源：大半導體產(chǎn)業(yè)網(wǎng)